“未来诗篇，技艺的笔触和留白——科技艺术新样貌”展览在中国美术馆展出

更新时间：2026-01-13 15:14  浏览量：1

1月13日，由中国美术馆策划并主办的“未来诗篇，技艺的笔触和留白——科技艺术新样貌”展览与观众见面。

本次展览展出8位当代青年艺术家的创作实践，集中呈现他们将科技融入艺术创作的探索。展品涵盖装置、数字沉浸装置等多种媒介形态，既有从传统山水精神中蜕变而出的数字意境，也有直面人工智能技术的思辨。围绕“传统艺术语言的当代转化”与“文明视觉表征的智能化演绎”等命题，参展作品展开多维度的实验与深度挖掘。艺术家们借助科技手段，在建构诗性艺术语言的同时，积极探索中华文明母题的当代表达路径。

中国美术馆始终关注并引导科技与艺术的深度融合。此次展览不仅是一场“技术+艺术”的创新成果展示，更是一场关于未来艺术可能性的学术探讨。观众可感知科技与艺术交融共生的发展趋势，畅想二者协同塑造的未来文化图景。

展览由中国美术馆展览部柳淳风、李暨涵担任策展人，各部门通力协作。展览呈现在中国美术馆一层7号厅，展出至1月30日（周一闭馆）。

作品赏析

（按艺术家姓氏笔画排序）

回旋 包蓉 装置

190×130×130cm 2025年

回游-波系列 汤杰 装置

290×75×290cm 2025年

丛林的预言 刘佳玉 数字沉浸影像

可变尺寸 2023年

浑沦 苏永健 影像装置

四时：冬寂 洪强 影像装置

可变尺寸 2025年

墨山 赵梓君 影像装置

1000×800cm 2021年

AI气候治理：回溯性的当下 韩娅娟 影像装置

可变尺寸 2025年

平直曲面的天水如一 靳军 数字沉浸影像