“两个AI：艺术智性与数字智能设计作品巡展”启幕

更新时间：2025-09-26 14:57  浏览量：2

9月25日，“两个AI：艺术智性与数字智能设计作品巡展”于杨浦区明华糖仓艺术中心启幕。据悉，展览将持续至10月9日。

本次展览分为四个板块，共展出120余件设计作品。从“机器图灵”到“数字黑匣”，从“文化新质”到“生活棱镜”，呈现人工智能与艺术智性在社会、文化与日常生活中的多维交融，以作品彰显科技与人文共生的力量，也在对话中思考未来生活的可能性。

“两个AI：艺术智性与数字智能设计作品巡展”是国家艺术基金2025年度传播交流推广资助项目、中国美术学院上海战略2025年重点项目、2025世界设计之都大会重点项目，通过人工智能与艺术智性的深度对话，探索数字时代的学术方法与研究范式，推动人文与科技的有机融合。

展览依托我国综合设计领域首个国际化学院奖中国设计智造大奖（DIA大奖）创新平台，征集了120件在数字智能时代下涌现的新物种，通过具身智能、元宇宙、低空经济、脑机接口等多维度创新设计作品，探讨技术变革时代下人工智能与艺术智性相互融合、共同进化的思辩过程。

展览分为“机器图灵”“数字黑匣”“文化新质”“生活棱镜”四个方面，既彰显了数字智能与艺术智性对新时代文化艺术发展与科技进步的融合面貌，也为新质生产力的跃迁提供源源不断的动能，为高质量发展搭建起广阔的创新平台。

展览集中展示了人工智能在前沿领域的探索与突破，凸显了人文科技融合的产业引领价值。展览中智能类展品占比高达80%，以高密度呈现AI在日常生活、文化生产和社会实践中的多重可能，不仅激发跨学科创新，也促进公众对“人文+科技”协同发展的理解与共识。

本次展览不仅推动了“科创+文创”的深度融合，也通过艺术创造力重塑人与科技的互动方式，为建设具有示范效应的创新产业带注入活力。

同时，沉浸式展陈也让复杂的AI概念转化为直观的审美与互动体验，增强公众对人工智能与设计创新的理解与参与，打造出一个“可参与、可学习、可创作”的公共文化样板；更以“两个AI”为主题，呈现具有中国表达、国际视野的学术与传播事件，吸引国内外媒体、学界与产业的广泛关注，展现出城市创新的独特名片与开放姿态。

【展览时间】

9月25日-10月9日 9:00-17:00 展期内无休